Memristive behavior of Ti02 thin film by RF magnetron sputtering / Mohammad Mukhlis Ramly
This project is on the fabrication and electrical characteristic of a memristive device with titanium dioxide (Ti02) as an active layer on two different substrates which are silicon (Si) and glass. Bottom electrodes of 60nm thick platinum were grown on the substrates before the TiC>2 deposition....
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Ramly, Mohammad Mukhlis |
---|---|
التنسيق: | أطروحة |
اللغة: | English |
منشور في: |
2012
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://ir.uitm.edu.my/id/eprint/98515/1/98515.pdf |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
RF magnetron sputtered YSZ thin films: fabrication and characterization /
بواسطة: Shahrul Razi bin Meskon
منشور في: (2011) -
Fabrication of titania-based memristive device using RF magnetron sputtering method / Aznilinda Zainuddin
بواسطة: Zainodin @ Zainuddin, Aznilinda
منشور في: (2014) -
Low-temperature growth of polycrystalline si thin film using RF magnetron sputtering / Shaiful Bakhtiar Hashim
بواسطة: Hashim, Shaiful Bakhtiar
منشور في: (2014) -
Structural and optical properties of RF-sputtered Ge thin films using magnetron sputtering technique
بواسطة: Ariffin, Nurul Assikin
منشور في: (2018) -
Fabrication and characterisation of magnetron sputtered copper thin films
بواسطة: Krishnasamy, Jegenathan
منشور في: (2011)