Teo, S. L. (2011). Electrochemical Deposition and Characterization of Copper Indium Disulfide Semiconductor Thin Films.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Teo, Sook Liang. Electrochemical Deposition and Characterization of Copper Indium Disulfide Semiconductor Thin Films. 2011.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Teo, Sook Liang. Electrochemical Deposition and Characterization of Copper Indium Disulfide Semiconductor Thin Films. 2011.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.