Al-Ta2O5-GaN Semiconductor Device Structure
GaN-based semiconductor devices have been extensively investigated for used in high power and high temperature device applications in order to replace Si which is no longer capable to fulfill these ever-increasing demands. The characteristics of low leakage current, low oxide charge density, and...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| التنسيق: | أطروحة |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2014
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.usm.my/28959/1/Al-Ta2O5-GaN_SEMICONDUCTOR_DEVICE_SRTUCTURE.pdf |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|