Inductively Coupled Plasma Etching On Gan
Dalam projek ini, penyelidikan difokuskan kepada kajian tentang pengaruh pelbagai campuran plasma (H2 dan Ar) kepada Ch sebagai gas asas pada GaN menggunakan punaran kering khususnya punaran plasma yang digandingkan secara teraruh (ICP) untuk mendapatkan anisotropik yang tinggi In this project...
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Thesis |
| Language: | English |
| Published: |
2010
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://eprints.usm.my/29516/1/Inductively_coupled_plasma_etching_on_GaN.pdf |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|