Epitaxial Growth Of Iii-V Nitrides Based Light Emitting Diodes By Metal Organic Chemical Vapor Deposition
This research aims to improve the performance of indium gallium nitride (InGaN) based LEDs and to demonstrate a working aluminum gallium nitride (AlGaN) based LEDs through metal organic chemical vapour deposition epitaxy. The effect of gallium nitride (GaN) nucleation growth temperature, superlattic...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Samsudin, Muhammad Esmed Alif |
---|---|
التنسيق: | أطروحة |
اللغة: | English |
منشور في: |
2023
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.usm.my/61291/1/24%20Pages%20from%20MUHAMMAD%20ESMED%20ALIF%20BIN%20SAMSUDIN.pdf |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Study of III-nitrides heterostructures grown by plasma-assisted molecular beam epitaxy (PAMBE)
بواسطة: Chin, Che Woei
منشور في: (2009) -
Epitaxial Growth Of Gan On Gan Multi Quantum Well For The Deep Green Light Emitting Diode
بواسطة: Abdul Rais, Shamsul Amir
منشور في: (2022) -
Rf-Mbe Growth Of Iii-Nitrides Heterostructures For Light Detecting Applications
بواسطة: Mohd Yusoff, Mohd Zaki
منشور في: (2016) -
Growth And Characterization Of Gallium Nitride Films On Porous Silicon Substrate
بواسطة: Samsudin, Muhammad Esmed Alif
منشور في: (2016) -
Simulation On Performance Of Gan-Based Light Emitting Diodes With Varied Geometry And Contacts Design
بواسطة: Othman, Muhammad Firdaus
منشور في: (2010)