Kesan Rawatan Kriogenik Terhadap Struktur Antaramuka Ni/Si Dalam Peranti Silikon Sebagai Pengesan Foto [QC373.P9 Z21 2008 f rb].
Projek ini mengkaji kesan rawatan kriogenik terhadap struktur antaramuka Ni/Si dalam silikon sebagai pengesan foto. This project studied the effects of cryogenic treatment on Ni/Si interface in silicon device as a photodetector.
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
التنسيق: | أطروحة |
اللغة: | English |
منشور في: |
2008
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.usm.my/8960/1/KESAN_RAWATAN_KRIOGENIK_TERHADAP_STRUKTUR_ANTARAMUKA_NI_SI_DALAM_PERANTI_SILIKON_SEBAGAI_PENGESAN_FOTO.pdf |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|