Kesan Rawatan Kriogenik Terhadap Struktur Antaramuka Ni/Si Dalam Peranti Silikon Sebagai Pengesan Foto [QC373.P9 Z21 2008 f rb].
Projek ini mengkaji kesan rawatan kriogenik terhadap struktur antaramuka Ni/Si dalam silikon sebagai pengesan foto. This project studied the effects of cryogenic treatment on Ni/Si interface in silicon device as a photodetector.
Saved in:
| 主要作者: | |
|---|---|
| 格式: | Thesis |
| 語言: | English |
| 出版: |
2008
|
| 主題: | |
| 在線閱讀: | http://eprints.usm.my/8960/1/KESAN_RAWATAN_KRIOGENIK_TERHADAP_STRUKTUR_ANTARAMUKA_NI_SI_DALAM_PERANTI_SILIKON_SEBAGAI_PENGESAN_FOTO.pdf |
| 標簽: |
添加標簽
沒有標簽, 成為第一個標記此記錄!
|