توثيق جمعية علم النفس الأمريكية APA (الطبعة السابعة)

Tan, P. B. Y. (2008). Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb].

توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)

Tan, Philip Beow Yew. Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 F Rb]. 2008.

توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)

Tan, Philip Beow Yew. Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 F Rb]. 2008.