Compact Modeling Of Deep Submicron CMOS Transistor With Shallow Trench Isolation Mechanical Stress Effect [TK7871.99.M44 T161 2008 f rb].
Thesis ini memperkenalkan satu model padat, dua model berasaskan empirikal dan satu model berasaskan fizikal untuk kesan tekanan mekanikal Pengasingan Peparit Cetek (STI) ke atas transistor CMOS di bawah submikron. This thesis introduces a compact model, two empirical-based models and a physi...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| التنسيق: | أطروحة |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2008
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.usm.my/9583/1/COMPACT_MODELING_OF_DEEP_SUBMICRON_CMOS_TRANSISTOR.pdf |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| الملخص: | Thesis ini memperkenalkan satu model padat, dua model berasaskan empirikal dan satu model berasaskan fizikal untuk kesan tekanan mekanikal Pengasingan Peparit Cetek (STI) ke atas transistor CMOS di bawah submikron.
This thesis introduces a compact model, two empirical-based models and a physical-based model of Shallow Trench Isolation (STI) mechanical stress effect on deep submicron CMOS transistor.
|
|---|