توثيق جمعية علم النفس الأمريكية APA (الطبعة السابعة)

Lee,, K. H. (2006). The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In Submicron Implant Technology [QC702.7.I55 L478 2006 f rb].

توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)

Lee,, Kang Hai. The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In Submicron Implant Technology [QC702.7.I55 L478 2006 F Rb]. 2006.

توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)

Lee,, Kang Hai. The Effect Of Implant Angle And Resist Shadowing In Submicron Implant Technology [QC702.7.I55 L478 2006 F Rb]. 2006.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.