Remote global alignment error for cycle time improvement of pad inductor layer
Lithography is the key process which transfers the pattern from mask (reticle) to wafer; and pad inductor layer is the last layer in photo masking. The cycle time for pad inductor layer has increased in Silterra Malaysia Sdn. Bhd., by 32% per month due to Global Alignment (GA) error. Meanwhile, engi...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
التنسيق: | أطروحة |
اللغة: | English English |
منشور في: |
2018
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.utem.edu.my/id/eprint/23781/1/Remote%20Global%20Alignment%20Error%20For%20Cycle%20Time%20Improvement%20Of%20Pad%20Inductor%20Layer.pdf http://eprints.utem.edu.my/id/eprint/23781/2/Remote%20global%20alignment%20error%20for%20cycle%20time%20improvement%20of%20pad%20inductor%20layer.pdf |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
كن أول من يترك تعليقا!