Fabrikasi dan pencirian teknologi 0.13 um nMOS
Objektif projek ini adalah melakukan rekabentuk dan simulasi sebuah transistor nMOS dengan saiz salur 0.13 11m. Dengan melaksanakan peraturan penskalaan, transistor nMOS 0.13 11m direkabentuk daripada resipi transistor CMOS 0.18 11m yang telah direkabentuk dan disimulasikan sebelum ini dengan...
Saved in:
主要作者: | Ahmad, Afandi |
---|---|
格式: | Thesis |
语言: | English |
出版: |
2003
|
主题: | |
在线阅读: | http://eprints.uthm.edu.my/7600/1/24p%20AFANDI%20AHMAD.pdf |
标签: |
添加标签
没有标签, 成为第一个标记此记录!
|
相似书籍
-
Simulation, fabrication and characterization of NMOS transistor
由: Rifai, Damhuji
出版: (2006) -
Simulation, fabrication and characterization of NMOS transistor
由: Rifai, Damhuji
出版: (2006) -
Mask design, fabrication and test NMOS transistor
由: Sahdan, Mohd Zainizan
出版: (2004) -
A 0.13-μm Cmos Reconfigurable Power Constrained Simultaneous Noise And Input Matching (Pcsnim) Low Noise Amplifier (Lna) For Multi-Standard 0.9, 1.8 And 2.1 Ghz Mobile Application
由: Hashim, Awatif
出版: (2016) -
Development Of Inductively-Degenerated LNA For W-CDMA Application Utilizing 0.18 Um RFCMOS Technology
由: Mohd. Noh, Norlaili
出版: (2009)