Aluminium nitride (AlN) as buffer layer for deposition of gallium nitride (GaN) thin films on silicon substrates using magnetron sputtering technique

Group III-nitrides semiconductors composed of gallium nitride (GaN), Indium nitride (InN), and aluminium nitride (AlN) had found use in broad technologies especially in optoelectronic and power devices. The main issues that limit the performance of GaN-based ultraviolet light-emitting diodes (UV-LED...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Tahan, Muliana
التنسيق: أطروحة
اللغة:English
English
English
منشور في: 2021
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://eprints.uthm.edu.my/989/1/24p%20MULIANA%20BINTI%20TAHAN.pdf
http://eprints.uthm.edu.my/989/2/MULIANA%20BINTI%20TAHAN%20COPYRIGHT%20DECLARATION.pdf
http://eprints.uthm.edu.my/989/3/MULIANA%20BINTI%20TAHAN%20WATERMARK.pdf
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!