Characterization of amorphous silicon-carbon alloy films (a-Si:C:H)
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Lau, Chen Chen |
---|---|
التنسيق: | أطروحة |
منشور في: |
2005
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Amorphous silicon (a-Si:H)/silicon nitride (a-SiNx:H) superlattice by D.C. plasma enhanced chemical vapour deposition : preparation and characterization /
بواسطة: Mitani, Sufian Mousa Ibrahim
منشور في: (2004) -
The structural and optical properties of hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) thin films deposited using a direct current-plasma enhanced chemical vapour deposition (DC-PECVD) technique
بواسطة: Abu Bakar, Suriani
منشور في: (2005) -
Effect of silicon morphology on various machinability parameters when turning A1-Si-Cu-Mg alloy
بواسطة: Barzani, Mohsen Marani
منشور في: (2012) -
Structural properties of hydrogenated amorphous silicon (A-SI:H) thin film grown via radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF PECVD)
بواسطة: Anthony Hasbi, Hasbullah
منشور في: (2005) -
Pecvd hydrogenated amorphous carbon films : growth and characterization /
بواسطة: Rozidawati Awang
منشور في: (2008)