Omar, M. F. (2016). Development of very high frequency plasma enhanced chemical vapour deposition for nanostructure silicon carbide thin film deposition.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Omar, Muhammad Firdaus. Development of Very High Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition for Nanostructure Silicon Carbide Thin Film Deposition. 2016.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Omar, Muhammad Firdaus. Development of Very High Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition for Nanostructure Silicon Carbide Thin Film Deposition. 2016.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.