Performance analysis of 22NM FinFET-based 8T SRAM cell
As CMOS devices are approaching nanometer regime, there are a lot of consequences found in scaling down CMOS devices such as short channel effects and process variations which affect the reliability and performance of the devices. Researchers have found that FinFET is one of the outstanding nominee...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Hasan Baseri, Nur Hasnifa |
---|---|
التنسيق: | أطروحة |
اللغة: | English |
منشور في: |
2018
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.utm.my/id/eprint/78938/1/NurHasnifaHasanMFKE2018.pdf |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Enhancing SRAM performance of common gate FinFET by using controllable independent double gate
بواسطة: Chong, Chung Keong
منشور في: (2015) -
Reliability analysis of junctionless fin field effect transistor (JL-FinFET)
بواسطة: Hamzah, Muhammad Naziiruddin
منشور في: (2022) -
Study of time-dependent dielectric breakdown (TDDB) in 15MM junctionless FinFET
بواسطة: Chng, Sze Lyn
منشور في: (2022) -
Device simulation of the electrical characteristics in 14nm gaussian channel junctionless finfet
بواسطة: Ramakrishnan, Mathangi
منشور في: (2022) -
Optimization of progress parameters for lower leakage current in 10 NM finfet using taguchi method
بواسطة: Loy, Ying Ting
منشور في: (2020)