Structure, morphology, optical and electrochemical properties of indium and aluminum based nitride thin films deposited by plasma-assisted reactive evaporation /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Rash, Mahdi Alizadeh Kouzeh (مؤلف) |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2016.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/6409/ |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Growth of indium oxide based nanostructures by plasma assisted reactive thermal evaporation for photoelectrochemical application /
بواسطة: Azianty Saroni
منشور في: (2018) -
Pulse electrochemical deposition and photocorrosion of copper indium diselenide thin film
بواسطة: Ghamarian, Nima
منشور في: (2012) -
Electrochemical Deposition and Characterization of Copper Indium Disulfide Semiconductor Thin Films
بواسطة: Teo, Sook Liang
منشور في: (2011) -
Surface and bulk studies of indium gallium nitride thin films /
بواسطة: Lau, Ernest Wei-Pin
منشور في: (1998) -
Filem nipis Langmuir-Blodgett klorofil-a dan peranti indium timah oksida / filem langmuir-Blodgett klorofil-a / aluminium /
بواسطة: Asiah Mohd. Nor
منشور في: (1998)