Effect of annealing on structural, optical and electrical properties of nickel/indium tin oxide (NI/ITO) nanostructures prepared by RF magnetron sputtering /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Mohd Sobri Abd Razak |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2016.
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Structural and optical properties of RF-sputtered Ge thin films using magnetron sputtering technique
بواسطة: Ariffin, Nurul Assikin
منشور في: (2018) -
Magnetic Properties of Rf Magnetron Sputtered Co-Ag-Cu Granular Thin Films
بواسطة: Kabashi, Kabashi Khatir
منشور في: (2000) -
Modelling and simulation of magnetron sputtering process /
بواسطة: Elfiky, Mohammed Albahy Abdulhameed
منشور في: (2014) -
Low power impulse magnetron's cathode sputtering using GaN and SiC plasma for modulated microwave power transmission system /
بواسطة: Leong, Wen Chek
منشور في: (2016) -
Nickel tetrasulphonated phthalocyanine (NiTsPc) nanostructures via polycarbonate mambrane : enhancement on optical, morphological and electrical properties /
بواسطة: Mirza Mohd Fawwaz Faizan Beg
منشور في: (2015)