Hot-filament plasma enhanced chemical vapour deposition of transfer-free graphene using nickel catalyst /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Maisara Othman (مؤلف) |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2019.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/11624/ |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012) -
Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
بواسطة: Aniszawati Azis
منشور في: (2012) -
Direct-current plasma glow discharged hydrogenated SiNx alloys : deposition and physical studies /
بواسطة: Faidz Abd. Rahman
منشور في: (1996) -
Hydrogenated amorphous silicon by pulsed plasma enhanced chemical vapour deposition technique /
بواسطة: Goh, Boon Tong
منشور في: (2005) -
Hydrogenated silicon nitride alloy from DC plasma decomposition : preparation and physical properties /
بواسطة: Raihan Othman
منشور في: (1998)