توثيق جمعية علم النفس الأمريكية APA (الطبعة السابعة)

Koh, D. K. A. (1995). The influence of a layer of oxide on electromigration performance of Al/Cu/Si metal lines.

توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)

Koh, David Khar Ann. The Influence of a Layer of Oxide on Electromigration Performance of Al/Cu/Si Metal Lines. 1995.

توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)

Koh, David Khar Ann. The Influence of a Layer of Oxide on Electromigration Performance of Al/Cu/Si Metal Lines. 1995.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.