Koh, D. K. A. (1995). The influence of a layer of oxide on electromigration performance of Al/Cu/Si metal lines.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Koh, David Khar Ann. The Influence of a Layer of Oxide on Electromigration Performance of Al/Cu/Si Metal Lines. 1995.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Koh, David Khar Ann. The Influence of a Layer of Oxide on Electromigration Performance of Al/Cu/Si Metal Lines. 1995.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.