The influence of a layer of oxide on electromigration performance of Al/Cu/Si metal lines /

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Koh, David Khar Ann
التنسيق: أطروحة كتاب
اللغة:English
منشور في: 1995.
الموضوعات:
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
الوصف
وصف مادي:xvii, 123 leaves : ill. ; 30 cm.
بيبلوغرافيا:Bibliography: leaves 118-123.