Hydrogenated silicon nitride alloy from DC plasma decomposition : preparation and physical properties /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Raihan Othman |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
1998.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/1621 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Direct-current plasma glow discharged hydrogenated SiNx alloys : deposition and physical studies /
بواسطة: Faidz Abd. Rahman
منشور في: (1996) -
Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
بواسطة: Aniszawati Azis
منشور في: (2012) -
Effects of hydrogen dilution of silane on the optical and photoluminescence properties of hydrogenated nanocrystalline silicon thin films /
بواسطة: Tang, Show Yih
منشور في: (2008) -
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012) -
Amorphous silicon (a-Si:H)/silicon nitride (a-SiNx:H) superlattice by D.C. plasma enhanced chemical vapour deposition : preparation and characterization /
بواسطة: Mitani, Sufian Mousa Ibrahim
منشور في: (2004)