Chen, G. L. (1999). Preparation and characterization of reactive RF sputtered nitride thin films.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Chen, Geok Loo. Preparation and Characterization of Reactive RF Sputtered Nitride Thin Films. 1999.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Chen, Geok Loo. Preparation and Characterization of Reactive RF Sputtered Nitride Thin Films. 1999.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.