Effects of hydrogen and nitrogen on the passivation of boron in a TiSi2/(100)-p+Si system /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Ng, Chit Hwei |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2000
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Penyediaan dan pencirian C54 TiSi2 untuk proses Silisida litar bersepadu CMOS /
بواسطة: Uda Hashim
منشور في: (2001) -
Secondary ions emission from Si(100) /
بواسطة: Low, Heng Siong
منشور في: (1996) -
Nitridation and growth of titanium thin films on SI (100) /
بواسطة: Siew, Hueh Ling
منشور في: (1998) -
Surface chemistry of five-membered heterocyclic aromatic molecules on SI (100)-2x1 /
بواسطة: Qiao, Minghua
منشور في: (2000) -
Surface chemistry of chlorobenzene and carbon tetrachloride on Si(111) and iron pentacarbonyl on GaAS(100) /
بواسطة: Ng, Adeline Seo Lian
منشور في: (1998)