Study of effect of rapid thermal oxidation on silicon-silicon germanium and silicon-silicon germanium carbon syatems /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Chen, Jer Hueih |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
1999
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Electrochemically deposited germanium on silicon and its crystallization by rapid melting growth
بواسطة: Zainal Abidin, Mastura Shafinaz
منشور في: (2014) -
Rapid thermal annealing on silicon-silicon oxide structures and random telegraphic signals /
بواسطة: Leong, Kok Keong
منشور في: (2000) -
Effect of rapid thermal annealing on rf sputtered silicon-silicon oxide systems /
بواسطة: Choo, Chong Kheng
منشور في: (1997) -
Investigation of silicon nitride capping layer and embedded silicon germanium effect on 90nm CMOS devices / Norlina Mohd Zain
بواسطة: Mohd Zain, Norlina
منشور في: (2010) -
Investigation of silicon nitride capping layer and embedded silicon germanium effect on 90 nm CMOS devices / Norlina Mohd Zain
بواسطة: Mohd Zain, Norlina
منشور في: (2010)