Characterisation of Ta2O5 thin films for sub-0.25um applications /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Tay, Mark Gek Leng |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2000.
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Characterisation of Ta2O5 thin films for sub-0.25 um applications /
بواسطة: Tay, Mark Gek Leng
منشور في: (2000) -
Integration of Cu interconnects for sub-0.25 um manufacturing /
بواسطة: Yap, Kuan Pei
منشور في: (1999) -
Integration of self-aligned silicide (salicide) process for sub-0.25 [mu]m CMOS technology /
بواسطة: Ho, Chaw Sing
منشور في: (2002) -
Zero cross detector design using single supply CMOS operational amplifier with 0.25um technology / Hamidah Mahmad
بواسطة: Mahmad, Hamidah
منشور في: (2009) -
Fabrication of sub-0.5um high electron mobility transistors /
بواسطة: Lee, Kay Ming
منشور في: (1998)