Tan, W. L. (2001). Nickel silicide integration issues in SI deep sub-micron technologies.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Tan, Wee Leng. Nickel Silicide Integration Issues in SI Deep Sub-micron Technologies. 2001.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Tan, Wee Leng. Nickel Silicide Integration Issues in SI Deep Sub-micron Technologies. 2001.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.