Study of plasma induced charging damage at CMOS gate process /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Chong, Daniel Kien Seen |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2002.
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Plasma charge damage in submicron process /
بواسطة: Song, Jun
منشور في: (1999) -
Plasma-induced damage-microtrenching and pitting /
بواسطة: Chua, Cher Sian
منشور في: (2002) -
Plasma-induced damage to gallium nitride /
بواسطة: Choi, Hoi Wai
منشور في: (2002) -
An accurate delay model for BiCMOS/CMOS logic gates /
بواسطة: Zhao, Bin
منشور في: (1999) -
Plasma process-induced damage to oxide/nitride/oxide (ONO) interpoly dielectric in flash memory devices /
بواسطة: Cha, Cher Liang
منشور في: (2001)