Cha, C. L. (2001). Plasma process-induced damage to oxide/nitride/oxide (ONO) interpoly dielectric in flash memory devices.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Cha, Cher Liang. Plasma Process-induced Damage to Oxide/nitride/oxide (ONO) Interpoly Dielectric in Flash Memory Devices. 2001.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Cha, Cher Liang. Plasma Process-induced Damage to Oxide/nitride/oxide (ONO) Interpoly Dielectric in Flash Memory Devices. 2001.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.