Ho, C. S. (2002). Integration of self-aligned silicide (salicide) process for sub-0.25 [mu]m CMOS technology.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Ho, Chaw Sing. Integration of Self-aligned Silicide (salicide) Process for Sub-0.25 [mu]m CMOS Technology. 2002.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Ho, Chaw Sing. Integration of Self-aligned Silicide (salicide) Process for Sub-0.25 [mu]m CMOS Technology. 2002.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.