A reliability methodology for deep sub-micron interconnect metal liners /

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Wong, Poh Ling
Format: Thesis Book
Language:English
Published: 2005.
Subjects:
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
LEADER 00987cam a2200241 a 4500
001 u707269
003 SIRSI
008 050609s2005 my t 000 0 eng m
040 |a UMJ  |d UMM 
090 |a TJ7  |b UM 2005 Won 
097 |a TJ7  |b UM 2005 Won 
100 1 0 |a Wong, Poh Ling 
245 1 2 |a A reliability methodology for deep sub-micron interconnect metal liners /  |c Wong Poh Ling. 
260 |c 2005. 
300 |a xii, 114 leaves :  |b ill, ;  |c 28 cm. 
502 |a Dissertation (M.Eng.Sc.) -- Jabatan Kejuruteraan Mekanik, Fakulti Kejuruteraan, Universiti Malaya, 2005. 
504 |a Bibliography: leaves 106-114. 
650 0 |a Electrodiffusion. 
650 0 |a Copper  |x Electric properties. 
710 |a Universiti Malaya.  |b Jabatan Kejuruteraan Mekanik. 
596 |a 1 7 
999 |a TJ7 UM 2005 WON  |w LC  |c 1  |i A511898638  |d 22/8/2006  |f 22/8/2006  |g 1  |l STACKS  |m P01UTAMA  |r Y  |s Y  |t TESIS  |u 22/8/2006 
999 |a TJ7 UM 2005 WON  |w LC  |c 1  |i A512475851  |d 23/7/2008  |f 23/7/2008  |g 1  |l STACKS  |m P07JURUTER  |r Y  |s Y  |t TESIS  |u 21/7/2008