Goh, C. L. (2006). A study of stress in backend metallization in ULSI devices.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Goh, Chia Lan. A Study of Stress in Backend Metallization in ULSI Devices. 2006.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Goh, Chia Lan. A Study of Stress in Backend Metallization in ULSI Devices. 2006.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.