توثيق جمعية علم النفس الأمريكية APA (الطبعة السابعة)

Lau, S. Y. Study on alignment capability and overlay performance in back-end of line lithography process for 130nm technology.

توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)

Lau, Siau Yen. Study on Alignment Capability and Overlay Performance in Back-end of Line Lithography Process for 130nm Technology.

توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)

Lau, Siau Yen. Study on Alignment Capability and Overlay Performance in Back-end of Line Lithography Process for 130nm Technology.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.