Lau, S. Y. Study on alignment capability and overlay performance in back-end of line lithography process for 130nm technology.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Lau, Siau Yen. Study on Alignment Capability and Overlay Performance in Back-end of Line Lithography Process for 130nm Technology.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Lau, Siau Yen. Study on Alignment Capability and Overlay Performance in Back-end of Line Lithography Process for 130nm Technology.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.