A study of deposited (Ti[1-X]A1[X]) N thin film by reactive magnetron sputtering /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Mohd Azaman Md Deros |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2006.
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
The effects of magnetron flux on magnetic properties and recording performance of CoCrPtTa thin film media for DC sputtering /
بواسطة: Wong, Hon Leong
منشور في: (1997) -
Giant Magnetoresistance of Silver Nickel Iron Grandular Magnetic Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering System
بواسطة: Lim, Kean Pah
منشور في: (1998) -
Magnetoresistance of CuCoNi, CuCo and AlFeNi Granular Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
بواسطة: Yu, Ong Sing
منشور في: (2002) -
Effect of DC magnetron sputtering on aluminium nitride (AIN) thin films /
بواسطة: Mohd Adreen Shah Azman Shah
منشور في: (2014) -
Structural and optical properties of RF-sputtered Ge thin films using magnetron sputtering technique
بواسطة: Ariffin, Nurul Assikin
منشور في: (2018)