Influence of RF power and hidrogen dilution on the optical and structural properties of hydrogenated silicon thin films deposited by RF plasma enhanced chemical vapour deposition /
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| التنسيق: | أطروحة كتاب |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2008.
|
| الموضوعات: | |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| وصف مادي: | xviii, 191 leaves : ill. ; 30 cm. |
|---|---|
| بيبلوغرافيا: | Bibliography: leaves 184-191. |