Ramlee Adnan. (2008). Physical properties of hydrogenated silicon (Si:H) thin films: The effect of RF power during deposition.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Ramlee Adnan. Physical Properties of Hydrogenated Silicon (Si:H) Thin Films: The Effect of RF Power During Deposition. 2008.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Ramlee Adnan. Physical Properties of Hydrogenated Silicon (Si:H) Thin Films: The Effect of RF Power During Deposition. 2008.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.