Ng, K. H. (2008). Development of a planar coil radio frequency inductively coupled plasma system for material processing.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Ng, Kim Hooi. Development of a Planar Coil Radio Frequency Inductively Coupled Plasma System for Material Processing. 2008.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Ng, Kim Hooi. Development of a Planar Coil Radio Frequency Inductively Coupled Plasma System for Material Processing. 2008.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.