Effects of substrate bias voltage on the properties of amorphous hydrogenated carbon nitride thin films /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Suhaimi Ab. Hamid |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2010.
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Deposition and characterization of non-uniform structure adamant films /
بواسطة: Shahira Liza Kamis
منشور في: (2015) -
Structural, optical and mechanical properties of RF-sputtered nanoscale coatings for building window glazing /
بواسطة: Hassan, Muhammad Mahamood
منشور في: (2010) -
Structure and optical properties of multi-phase structured amorphous silicon carbon nitride thin films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition /
بواسطة: Mohd Azam Abdul Rahman
منشور في: (2018) -
Filem nipis karbon nitrida amorfus (a-CNx) sebagai sensor kelembapan /
بواسطة: Noor Farhana Husna A. Aziz -
Low-temperature thermal expansion of amorphous solids /
بواسطة: Ackerman, David Alan
منشور في: (1982)