Fabrication and characterization of polymeric and nanostructured carbon nitride thin films : a simple difference in electrode distance /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Richard Ritikos |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2011.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/3817 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Influence of hydrogenated amorphous carbon underlayer film on the formation of carbon nitride nanostructures /
بواسطة: Noor Hamizah Khanis
منشور في: (2013) -
Plasma enhanced physical vapor deposition of titanium nitride thin film /
بواسطة: Chew, Sweet Perng
منشور في: (2002) -
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012) -
Synthesis and characterization of RF-PECVD carbon nitride thin films /
بواسطة: Lim, Shuang Fang
منشور في: (1999) -
Effects of hydrogen dilution of silane on the optical and photoluminescence properties of hydrogenated nanocrystalline silicon thin films /
بواسطة: Tang, Show Yih
منشور في: (2008)