Goh, B. T. (2012). Layer-by-layer plasma enhanced chemical vapour deposition of nanocrystalline silicon thin films.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Goh, Boon Tong. Layer-by-layer Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Nanocrystalline Silicon Thin Films. 2012.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Goh, Boon Tong. Layer-by-layer Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Nanocrystalline Silicon Thin Films. 2012.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.