Parameter optimization, characterization and adhesion strength of magnetron sputterred tisin coating /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Bushroa Abdul Razak |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2012.
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Negative bias temperature instability and permittivity dependent delay mitigation in High-K metal oxide compatible cmos dielectric /
بواسطة: Karim, Nissar Mohammad
منشور في: (2015) -
Static current and voltage techniques for CMOS reliability characterization /
بواسطة: Jie, Bin Bin
منشور في: (1999) -
Biocompatible and antibacterial silver tantalum oxide thin film by magnetron sputtering for surgical applications /
بواسطة: Rodianah Alias
منشور في: (2019) -
Quarter-micron process simulation and LDD structure optimization /
بواسطة: Wang, Yu
منشور في: (1997) -
Integration of self-aligned silicide (salicide) process for sub-0.25 [mu]m CMOS technology /
بواسطة: Ho, Chaw Sing
منشور في: (2002)