Aniszawati Azis. (2012). Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Aniszawati Azis. Hot-wire Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition System for Preparation of Silicon Carbide Thin Films. 2012.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Aniszawati Azis. Hot-wire Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition System for Preparation of Silicon Carbide Thin Films. 2012.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.