Formation of silicon nanowires by chemical vapour deposition technique using indium catalyst /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Chong, Su Kong |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2012.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/3893 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Hydrogenated amorphous silicon by pulsed plasma enhanced chemical vapour deposition technique /
بواسطة: Goh, Boon Tong
منشور في: (2005) -
Synthesis of carbon nanotubes using hot filament chemical vapour deposition technique /
بواسطة: Lee, Cheng Choo
منشور في: (2007) -
Copper deposition on polyimide by reduction and chemical vapour deposition /
بواسطة: Chen, Lina
منشور في: (2001) -
Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
بواسطة: Aniszawati Azis
منشور في: (2012) -
Hot-filament plasma enhanced chemical vapour deposition of transfer-free graphene using nickel catalyst /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2019)