Modeling and simulation of metal organic halide vapor phase epitaxy growth chamber reactor /

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Nurul Zieyana Mohamed Annuar (Author)
Format: Thesis Book
Language:English
Published: 2013.
Subjects:
Online Access:http://studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/8652.
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
LEADER 01491cam a2200337 i 4500
001 u888367
003 SIRSI
005 201309191625
008 130919s2013 my a m 000 0 eng m
040 |a UMM  |d UMJ  |d AUM  |e rda 
090 |a TA7  |b UM 2013 Nurzma 
097 |a TA7  |b UM 2013 Nurzma 
100 0 |a Nurul Zieyana Mohamed Annuar,  |e author. 
245 1 0 |a Modeling and simulation of metal organic halide vapor phase epitaxy growth chamber reactor /  |c Nurul Zieyana bt Mohamed Annuar. 
264 1 |c 2013. 
300 |a ix, 88 leaves :  |b illustrations ;  |c 30 cm. 
336 |a text  |2 rdacontent 
337 |a unmediated  |2 rdamedia 
338 |a volume  |2 rdacarrier 
502 |b M.Eng.Sc.  |c Jabatan Kejuruteraan Awam, Fakulti Kejuruteraan, Universiti Malaya  |d 2013. 
504 |a Bibliography: leaves 79-82. 
650 0 |a Semiconductors  |x Research. 
650 0 |a Metal organic chemical vapor deposition. 
650 0 |a Thin films. 
710 2 |a Universiti Malaya.  |b Jabatan Kejuruteraan Awam,  |e degree granting institution. 
856 4 1 |u http://studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/8652. 
900 |a AT-ZA 
596 |a 1 7 25 
999 |a TA7 UM 2013 NURZMA  |w LC  |c 1  |i A515605585  |d 16/4/2014  |f 16/4/2014  |g 1  |l STACKS  |m P01UTAMA  |r Y  |s Y  |t TESIS  |u 14/4/2014 
999 |a TA7 UM 2013 NURZMA  |w LC  |c 1  |i A516149459  |d 17/2/2015  |f 17/2/2015  |g 1  |l STACKS  |m P07JURUTER  |r Y  |s Y  |t TESIS  |u 17/2/2015 
999 |a TA7 UM 2013 NURZMA  |w LC  |c 1  |i A516153524  |d 17/2/2015  |f 17/2/2015  |g 1  |l STACKS  |m P25UMARCHI  |r N  |s Y  |t CD  |u 17/2/2015  |o .STAFF. MST-CD3024