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    Process integration issues of self-aligned titanium silicide technology (Ti-Salicide) in deep sub-micron CMOS devices fabrication /
    由 Lim, Chong Wee
    出版 1998
    Thesis 图书
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    Enhanced stability of nickel silicide for advanced CMOS silicon technologies /
    由 Lee, Pooi See
    出版 2001
    Thesis 图书
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  3. 3
    Integration of self-aligned silicide (salicide) process for sub-0.25 [mu]m CMOS technology /
    由 Ho, Chaw Sing
    出版 2002
    Thesis 图书
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