Penyediaan dan pencirian C54 TiSi2 untuk proses Silisida litar bersepadu CMOS /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Uda Hashim |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | Malay |
منشور في: |
Bangi :
Fakulti Kejuruteraan, Universiti Kebangsaan Malaysia,
2001
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Process integration issues of self-aligned titanium silicide technology (Ti-Salicide) in deep sub-micron CMOS devices fabrication /
بواسطة: Lim, Chong Wee
منشور في: (1998) -
Development of an effective algorithm for microchip lead inspection /
بواسطة: Obaidy, Haitham Hilmi Lutfi
منشور في: (2004) -
Integration of self-aligned silicide (salicide) process for sub-0.25 [mu]m CMOS technology /
بواسطة: Ho, Chaw Sing
منشور في: (2002) -
Modeling and analysis of semiconductor back-end assembly process /
بواسطة: Joseph, Neethamol
منشور في: (1998) -
Enhanced stability of nickel silicide for advanced CMOS silicon technologies /
بواسطة: Lee, Pooi See
منشور في: (2001)