توثيق جمعية علم النفس الأمريكية APA (الطبعة السابعة)

Ahmad, A. F. (2022). A crystallographic optimization study in Ta TaN bi-layer sputtering to reduce semiconductor manufacturing queue time constraint.

توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)

Ahmad, Anuar Fadzil. A Crystallographic Optimization Study in Ta TaN Bi-layer Sputtering to Reduce Semiconductor Manufacturing Queue Time Constraint. 2022.

توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)

Ahmad, Anuar Fadzil. A Crystallographic Optimization Study in Ta TaN Bi-layer Sputtering to Reduce Semiconductor Manufacturing Queue Time Constraint. 2022.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.