Optical properties measurements of nanocrystalline silicon thin films
Nanocrystalline silicon (nc-Si) thin films on 7059 corning glass substrate were prepared using Very High Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition (VHF-PECVD) at different deposition temperatures. The nc-Si properties film were analyzed using spectroscopic ellipsometer, ultra violet (UV-V...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| التنسيق: | أطروحة |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2011
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.utm.my/id/eprint/33381/1/GanCheeHongMFS2011.pdf |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|