Structural and optical properties of diamond like carbon films using direct current plasma enhanced chemical vapor deposition
The amorphous diamond like carbon (a - DLC) thin films were deposited in 3 hours on glass substrates at the vacuum pressure, 8.0 x 10-2 Torr ; deposition pressure, 4.0 x 10-1 Torr and deposition temperatures, 300 – 500 °C by using direct current plasma enhanced chemical vapour deposition (DC - PECVD...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Ong, Wai Kit |
---|---|
التنسيق: | أطروحة |
اللغة: | English |
منشور في: |
2015
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.utm.my/id/eprint/81448/1/OngWaiKitMFS2015.pdf |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
UV-Vis characterization of diamond-like carbon thin films deposited using (DC-PECVD)
بواسطة: Ab. Rahman, Nur Alifah
منشور في: (2010) -
The effect of substrate temperature on the structural and optical properties of diamond-like carbon thin film
بواسطة: Sarmid, Suriany
منشور في: (2007) -
Conduction mechanisms in diamond-like carbon thin films prepared by PECVD method
بواسطة: Ab. Kaderld, Mohd. Azamnie
منشور في: (2010) -
Surface roughness and infra-red study of diamond-like carbon thin films
بواسطة: Roslan, Bibi Aishah
منشور في: (2010) -
Structural properties of hydrogenated amorphous silicon (A-SI:H) thin film grown via radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF PECVD)
بواسطة: Anthony Hasbi, Hasbullah
منشور في: (2005)