Hot-wire chemical vapour deposition of silicon carbide thin films from pure silane and methane gases /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Tehrani, Fatemeh Shariatmadar (مؤلف) |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2013.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/5858 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
بواسطة: Aniszawati Azis
منشور في: (2012) -
Penyediaan dan pencirian sel suria silikon dengan kaedah cetakan tabir /
بواسطة: Mursyidah
منشور في: (1999) -
Preparation and characterisation of hydrogenated R.F. sputtered amorphous silicon carbide films /
بواسطة: Loo, Fook Leong
منشور في: (1996) -
Trap-assisted tunneling mechanism of Zirconium Oxynitride (ZrON) thin film on Silicon Carbide /
بواسطة: Nicklaane Krishnamoorthy
منشور في: (2020) -
Structure and optical properties of multi-phase structured amorphous silicon carbon nitride thin films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition /
بواسطة: Mohd Azam Abdul Rahman
منشور في: (2018)